
清(qīng)空(kōng)记录(lù)
曆史记录(lù)
取(qǔ)消
清(qīng)空(kōng)记录(lù)
曆史记录(lù)

GTCK系(xì)列磁控溅射鍍膜設備为(wèi)單体溅射鍍膜機(jī),多(duō)台分(fēn)子泵提(tí)供优良的(de)真(zhēn)空(kōng)条(tiáo)件(jiàn),提(tí)供穩定的(de)溅射条(tiáo)件(jiàn)。
設備特(tè)點(diǎn):
腔体尺寸(cùn)φ1200-φ2000mm
使用(yòng)陽极层(céng)離子源/無栅射頻ICP系(xì)統
通(tòng)过(guò)ACS全(quán)自(zì)動(dòng)鍍膜控制系(xì)統實(shí)現(xiàn)全(quán)自(zì)動(dòng)鍍膜过(guò)程
工件(jiàn)架为(wèi)多(duō)片挂架式/行星(xīng)結構
無油(yóu)排气(qì)系(xì)統可(kě)定制
成(chéng)膜过(guò)程及(jí)狀态可(kě)多(duō)角(jiǎo)度(dù)观察
GTCK-800主(zhǔ)要(yào)規格參數:
真(zhēn)空(kōng)腔室(shì)尺寸(cùn) | SUS304 φ800mmx900mm(H) |
工件(jiàn)架 | 多(duō)片挂架式装配結構 |
工件(jiàn)架尺寸(cùn) | φ650x500 |
基闆回(huí)轉(zhuǎn)速度(dù) | 3r/min-30r/min(可(kě)變(biàn)) |
反(fǎn)應(yìng)速率控制方(fāng)式 | 反(fǎn)應(yìng)速率控制Speedfol/直(zhí)接反(fǎn)應(yìng) |
溅射源 | 旋轉(zhuǎn)/平面(miàn)陰极、中(zhōng)頻/直(zhí)流 |
膜厚控制 | 晶控控制/时間(jiān)累計(jì)控制 |
離子源 | 陽极层(céng)離子源/RF-ICP |
真(zhēn)空(kōng)排气(qì) | 機(jī)械泵+分(fēn)子泵/低(dī)温(wēn)泵/+深冷捕集泵 |
基本(běn)性(xìng)能(néng):
极限真(zhēn)空(kōng) | 2.5x10-4Pa |
排气(qì)时間(jiān) | 大(dà)气(qì)-4.0x10-3Pa/15min/常温(wēn)空(kōng)载(zài) |
基闆温(wēn)度(dù) | 最(zuì)高(gāo)150℃ |
工作(zuò)条(tiáo)件(jiàn):
空(kōng)間(jiān)要(yào)求 | 約2.8m(宽(kuān))x2.6m(深)x2m(高(gāo)) |
電(diàn)源要(yào)求 | 3相5線(xiàn)380v50Hz、約45kw |
冷卻水要(yào)求 | 60L/min、0.2-0.3MPa、10-35℃ |
壓縮空(kōng)气(qì) | 0.6MPa |
設備重量(liàng) | 約2000kg |
GTCK系(xì)列磁控溅射鍍膜設備为(wèi)單体溅射鍍膜機(jī),多(duō)台分(fēn)子泵提(tí)供优良的(de)真(zhēn)空(kōng)条(tiáo)件(jiàn),提(tí)供穩定的(de)溅射条(tiáo)件(jiàn)。
設備特(tè)點(diǎn):
腔体尺寸(cùn)φ1200-φ2000mm
使用(yòng)陽极层(céng)離子源/無栅射頻ICP系(xì)統
通(tòng)过(guò)ACS全(quán)自(zì)動(dòng)鍍膜控制系(xì)統實(shí)現(xiàn)全(quán)自(zì)動(dòng)鍍膜过(guò)程
工件(jiàn)架为(wèi)多(duō)片挂架式/行星(xīng)結構
無油(yóu)排气(qì)系(xì)統可(kě)定制
成(chéng)膜过(guò)程及(jí)狀态可(kě)多(duō)角(jiǎo)度(dù)观察
GTCK-800主(zhǔ)要(yào)規格參數:
真(zhēn)空(kōng)腔室(shì)尺寸(cùn) | SUS304 φ800mmx900mm(H) |
工件(jiàn)架 | 多(duō)片挂架式装配結構 |
工件(jiàn)架尺寸(cùn) | φ650x500 |
基闆回(huí)轉(zhuǎn)速度(dù) | 3r/min-30r/min(可(kě)變(biàn)) |
反(fǎn)應(yìng)速率控制方(fāng)式 | 反(fǎn)應(yìng)速率控制Speedfol/直(zhí)接反(fǎn)應(yìng) |
溅射源 | 旋轉(zhuǎn)/平面(miàn)陰极、中(zhōng)頻/直(zhí)流 |
膜厚控制 | 晶控控制/时間(jiān)累計(jì)控制 |
離子源 | 陽极层(céng)離子源/RF-ICP |
真(zhēn)空(kōng)排气(qì) | 機(jī)械泵+分(fēn)子泵/低(dī)温(wēn)泵/+深冷捕集泵 |
基本(běn)性(xìng)能(néng):
极限真(zhēn)空(kōng) | 2.5x10-4Pa |
排气(qì)时間(jiān) | 大(dà)气(qì)-4.0x10-3Pa/15min/常温(wēn)空(kōng)载(zài) |
基闆温(wēn)度(dù) | 最(zuì)高(gāo)150℃ |
工作(zuò)条(tiáo)件(jiàn):
空(kōng)間(jiān)要(yào)求 | 約2.8m(宽(kuān))x2.6m(深)x2m(高(gāo)) |
電(diàn)源要(yào)求 | 3相5線(xiàn)380v50Hz、約45kw |
冷卻水要(yào)求 | 60L/min、0.2-0.3MPa、10-35℃ |
壓縮空(kōng)气(qì) | 0.6MPa |
設備重量(liàng) | 約2000kg |
