成(chéng)都国泰真(zhēn)空(kōng)設備有(yǒu)限公司
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清(qīng)空(kōng)记录(lù)

曆史记录(lù)

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GT-1150直(zhí)接光控光學(xué)真(zhēn)空(kōng)鍍膜機(jī)

分(fēn)享

分(fēn)享到(dào)微信(xìn)

×
GT-1150直(zhí)接光控光學(xué)真(zhēn)空(kōng)鍍膜機(jī)用(yòng)于(yú)制備近(jìn)紫外(wài)波(bō)段(duàn)至(zhì)近(jìn)紅(hóng)外(wài)波(bō)段(duàn)的(de)窄(zhǎi)带(dài)濾光膜以(yǐ)及(jí)IR-CUT等規整及(jí)非規整膜系(xì)。
産品詳情(qíng)

  GT系(xì)列高(gāo)端光學(xué)真(zhēn)空(kōng)鍍膜設備用(yòng)于(yú)制備近(jìn)紫外(wài)波(bō)段(duàn)至(zhì)近(jìn)紅(hóng)外(wài)波(bō)段(duàn)的(de)窄(zhǎi)带(dài)濾光膜以(yǐ)及(jí)IR-CUT等規整及(jí)非規整膜系(xì)。

  設備特(tè)點(diǎn):

  · 腔体尺寸(cùn)φ1150-φ1800mm

  · 高(gāo)精度(dù)直(zhí)接/間(jiān)接光學(xué)膜厚監控系(xì)統

  · 高(gāo)離子流密度(dù)射頻離子源

  · 双電(diàn)子槍,多(duō)點(diǎn)和(hé)环型坩埚可(kě)鍍100层(céng)以(yǐ)上(shàng)

  · ACS全(quán)自(zì)動(dòng)鍍膜控制系(xì)統實(shí)現(xiàn)全(quán)自(zì)動(dòng)鍍膜过(guò)程

  · 工件(jiàn)架可(kě)選择球傘(sǎn)式、行星(xīng)式或(huò)翻轉(zhuǎn)式

  · 排气(qì)系(xì)統低(dī)真(zhēn)空(kōng)泵組+高(gāo)真(zhēn)空(kōng)泵組+深冷

  GT-1150主(zhǔ)要(yào)規格參數:

真(zhēn)空(kōng)腔室(shì)尺寸(cùn)SUS304 φ1150mmx1300mm(H)
工件(jiàn)盤有(yǒu)效鍍膜尺寸(cùn)φ1042mm
基闆回(huí)轉(zhuǎn)速度(dù)3r/min-30r/min(可(kě)變(biàn))
光學(xué)膜厚監控

直(zhí)接監控

波(bō)长(cháng)範圍:360nm-2400nm

波(bō)长(cháng)精度(dù):<±1nm

監控器类型:透射

晶振膜厚儀XTC-3+6點(diǎn)晶控
蒸發(fà)源E型電(diàn)子槍2套(tào)
離子源GTRF17
真(zhēn)空(kōng)排气(qì)機(jī)械泵+分(fēn)子泵/低(dī)温(wēn)泵/+深冷捕集泵

  基本(běn)性(xìng)能(néng):

极限真(zhēn)空(kōng)8.0x10-5Pa
排气(qì)时間(jiān)大(dà)气(qì)-3.0x10-3Pa/12min/常温(wēn)空(kōng)载(zài) 
基闆温(wēn)度(dù)最(zuì)高(gāo)350℃

  工作(zuò)条(tiáo)件(jiàn):

空(kōng)間(jiān)要(yào)求約2.7m(宽(kuān))x4.6m(深)x2.7m(高(gāo))
電(diàn)源要(yào)求3相4線(xiàn)380v50Hz、約60kw
冷卻水要(yào)求100L/min、0.2-0.4MPa、18-25℃
壓縮空(kōng)气(qì)0.6MPa
設備重量(liàng)約4500kg



GT-1150直(zhí)接光控光學(xué)真(zhēn)空(kōng)鍍膜機(jī)
GT-1150直(zhí)接光控光學(xué)真(zhēn)空(kōng)鍍膜機(jī)
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400-6667-357
産品詳情(qíng)

  GT系(xì)列高(gāo)端光學(xué)真(zhēn)空(kōng)鍍膜設備用(yòng)于(yú)制備近(jìn)紫外(wài)波(bō)段(duàn)至(zhì)近(jìn)紅(hóng)外(wài)波(bō)段(duàn)的(de)窄(zhǎi)带(dài)濾光膜以(yǐ)及(jí)IR-CUT等規整及(jí)非規整膜系(xì)。

  設備特(tè)點(diǎn):

  · 腔体尺寸(cùn)φ1150-φ1800mm

  · 高(gāo)精度(dù)直(zhí)接/間(jiān)接光學(xué)膜厚監控系(xì)統

  · 高(gāo)離子流密度(dù)射頻離子源

  · 双電(diàn)子槍,多(duō)點(diǎn)和(hé)环型坩埚可(kě)鍍100层(céng)以(yǐ)上(shàng)

  · ACS全(quán)自(zì)動(dòng)鍍膜控制系(xì)統實(shí)現(xiàn)全(quán)自(zì)動(dòng)鍍膜过(guò)程

  · 工件(jiàn)架可(kě)選择球傘(sǎn)式、行星(xīng)式或(huò)翻轉(zhuǎn)式

  · 排气(qì)系(xì)統低(dī)真(zhēn)空(kōng)泵組+高(gāo)真(zhēn)空(kōng)泵組+深冷

  GT-1150主(zhǔ)要(yào)規格參數:

真(zhēn)空(kōng)腔室(shì)尺寸(cùn)SUS304 φ1150mmx1300mm(H)
工件(jiàn)盤有(yǒu)效鍍膜尺寸(cùn)φ1042mm
基闆回(huí)轉(zhuǎn)速度(dù)3r/min-30r/min(可(kě)變(biàn))
光學(xué)膜厚監控

直(zhí)接監控

波(bō)长(cháng)範圍:360nm-2400nm

波(bō)长(cháng)精度(dù):<±1nm

監控器类型:透射

晶振膜厚儀XTC-3+6點(diǎn)晶控
蒸發(fà)源E型電(diàn)子槍2套(tào)
離子源GTRF17
真(zhēn)空(kōng)排气(qì)機(jī)械泵+分(fēn)子泵/低(dī)温(wēn)泵/+深冷捕集泵

  基本(běn)性(xìng)能(néng):

极限真(zhēn)空(kōng)8.0x10-5Pa
排气(qì)时間(jiān)大(dà)气(qì)-3.0x10-3Pa/12min/常温(wēn)空(kōng)载(zài) 
基闆温(wēn)度(dù)最(zuì)高(gāo)350℃

  工作(zuò)条(tiáo)件(jiàn):

空(kōng)間(jiān)要(yào)求約2.7m(宽(kuān))x4.6m(深)x2.7m(高(gāo))
電(diàn)源要(yào)求3相4線(xiàn)380v50Hz、約60kw
冷卻水要(yào)求100L/min、0.2-0.4MPa、18-25℃
壓縮空(kōng)气(qì)0.6MPa
設備重量(liàng)約4500kg



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