
清(qīng)空(kōng)记录(lù)
曆史记录(lù)
取(qǔ)消
清(qīng)空(kōng)记录(lù)
曆史记录(lù)

光電(diàn)湧動(dòng),智造未来(lái)。亞洲(zhōu)有(yǒu)影響力的(de)激光、光學(xué)、光電(diàn)行業盛会(huì)——2026慕尼黑(hēi)上(shàng)海(hǎi)光博会(huì),将于(yú)3月(yuè)18日(rì)至(zhì)20日(rì)在(zài)上(shàng)海(hǎi)新(xīn)国際博覽中(zhōng)心(xīn)璀璨啟幕。北(běi)方(fāng)華创集团(tuán)旗(qí)下真(zhēn)空(kōng)装備企業——成(chéng)都国泰真(zhēn)空(kōng),将與(yǔ)母公司北(běi)方(fāng)華创(国內(nèi)半導体設備先(xiān)進(jìn)企業)以(yǐ)空(kōng)前阵(zhèn)容協同(tóng)參展。此(cǐ)次(cì)集团(tuán)聯動(dòng)不(bù)僅是(shì)內(nèi)部(bù)産業优勢的(de)深度(dù)聚合,更(gèng)是(shì)国産真(zhēn)空(kōng)装備與(yǔ)半導体工艺鍊(liàn)自(zì)主(zhǔ)可(kě)控能(néng)力的(de)集中(zhōng)展示。
我(wǒ)们(men)将融合国泰真(zhēn)空(kōng)在(zài)精密光學(xué)真(zhēn)空(kōng)鍍膜設備研發(fà)的(de)深厚根(gēn)基,與(yǔ)北(běi)方(fāng)華创在(zài)半導体工艺設備、大(dà)規模量(liàng)産應(yìng)用(yòng)的(de)优勢,共(gòng)同(tóng)呈現(xiàn)覆蓋“材料-装備-工艺-應(yìng)用(yòng)”的(de)全(quán)鍊(liàn)条(tiáo)解(jiě)決方(fāng)案(àn)。我(wǒ)们(men)不(bù)止于(yú)提(tí)供設備,更(gèng)致(zhì)力于(yú)成(chéng)为(wèi)客戶在(zài)光電(diàn)與(yǔ)半導体領域技術(shù)突破與(yǔ)産能(néng)升(shēng)級的(de)戰略伙伴。此(cǐ)次(cì)聯合亮相,是(shì)我(wǒ)们(men)以(yǐ)创新(xīn)为(wèi)引擎,以(yǐ)可(kě)靠为(wèi)基石(dàn),助力中(zhōng)国智造發(fà)展的(de)力证。
我(wǒ)们(men)诚摯地(dì)邀请您撥冗莅臨,親身(shēn)体验(yàn)国産先(xiān)進(jìn)装備的(de)硬(yìng)核實(shí)力,深入(rù)交流行業前沿趨勢,共(gòng)同(tóng)探索在(zài)光電(diàn)産業蓬勃發(fà)展大(dà)潮(cháo)中(zhōng)的(de)無限合作(zuò)可(kě)能(néng)。
相約上(shàng)海(hǎi),不(bù)見(jiàn)不(bù)散!
时間(jiān):2026年(nián)3月(yuè)18-20日(rì) 地(dì)點(diǎn):上(shàng)海(hǎi)新(xīn)国際博覽中(zhōng)心(xīn) 展位(wèi):E4館(guǎn),4100展位(wèi)
重點(diǎn)展品涵蓋新(xīn)能(néng)源、航空(kōng)航天(tiān)、半導体、消費電(diàn)子等領域的(de)光學(xué)真(zhēn)空(kōng)鍍膜設備及(jí)元(yuán)器件(jiàn)。設備具備高(gāo)精度(dù)、高(gāo)穩定性(xìng)、高(gāo)自(zì)動(dòng)化(huà)等特(tè)點(diǎn),可(kě)滿足各(gè)类薄膜沉積工艺需求,助力客戶攻克(kè)複杂鍍膜難題(tí),提(tí)升(shēng)産品品质與(yǔ)生(shēng)産效率。
相較于(yú)1800型鍍膜機(jī),2106型鍍膜機(jī)将産能(néng)直(zhí)接提(tí)升(shēng)35%,滿足更(gèng)高(gāo)産能(néng)需求。該鍍膜機(jī)采用(yòng)双離子源/大(dà)口(kǒu)徑離子源輔助沉積模式,針(zhēn)对(duì)性(xìng)解(jiě)決了(le)傳統設備折射率分(fēn)布(bù)不(bù)均勻的(de)行業難題(tí)。
DLC碳膜機(jī)主(zhǔ)要(yào)應(yìng)用(yòng)于(yú)紅(hóng)外(wài)透鏡(jìng),實(shí)現(xiàn)加硬(yìng)的(de)效果。
該設備采用(yòng)ICP後(hòu)反(fǎn)應(yìng)制程,对(duì)比直(zhí)接反(fǎn)應(yìng)溅射,沉積速率提(tí)升(shēng)一(yī)倍以(yǐ)上(shàng),且(qiě)鍍膜功率小,温(wēn)升(shēng)低(dī),膜层(céng)致(zhì)密性(xìng)更(gèng)高(gāo),膜层(céng)吸收(shōu)更(gèng)低(dī)。优化(huà)装载(zài)結構对(duì)比産能(néng)提(tí)升(shēng)1/3。
国內(nèi)超大(dà)口(kǒu)徑射頻離子源,完全(quán)填補国內(nèi)空(kōng)缺。擁有(yǒu)更(gèng)大(dà)的(de)離子束(shù)流和(hé)更(gèng)宽(kuān)的(de)工作(zuò)範圍,可(kě)适應(yìng)更(gèng)複杂的(de)鍍膜工艺要(yào)求,为(wèi)大(dà)口(kǒu)徑光學(xué)鍍膜提(tí)供可(kě)靠解(jiě)決方(fāng)案(àn)。
具有(yǒu)温(wēn)升(shēng)小、吸收(shōu)小、離子束(shù)流高(gāo)低(dī)均可(kě)、單次(cì)/多(duō)次(cì)使用(yòng)壽命长(cháng)等特(tè)點(diǎn),适用(yòng)于(yú)紅(hóng)外(wài)、塑胶(jiāo)、光纖、玻璃AR/IR的(de)鍍膜。
适用(yòng)于(yú)光學(xué)真(zhēn)空(kōng)鍍膜機(jī),可(kě)鍍制增透膜、反(fǎn)射膜、濾光膜、分(fēn)光膜、常通(tòng)膜、 高(gāo)反(fǎn)膜、彩色反(fǎn)射膜等各(gè)種(zhǒng)膜系(xì),能(néng)夠长(cháng)时間(jiān)穩定可(kě)靠的(de)實(shí)現(xiàn)多(duō)层(céng)膜系(xì)的(de)沉積。
GT-6T/16T旋轉(zhuǎn)式多(duō)晶体傳感(gǎn)器,是(shì)为(wèi)連(lián)續的(de)速率監測和(hé)控制而設計(jì)的(de)。轉(zhuǎn)位(wèi)精确,信(xìn)号(hào)穩定,适合长(cháng)时間(jiān)或(huò)大(dà)厚度(dù)的(de)鍍膜。
光電(diàn)同(tóng)行,共(gòng)赴新(xīn)程。2026慕尼黑(hēi)上(shàng)海(hǎi)光博会(huì),我(wǒ)们(men)静(jìng)候您的(de)到(dào)来(lái),共(gòng)話(huà)前沿技術(shù)、共(gòng)商發(fà)展機(jī)遇,並(bìng)肩攜手(shǒu),賦能(néng)産業升(shēng)級,共(gòng)築光電(diàn)未来(lái)無限新(xīn)篇(piān)。
